百晓学者学者目录

张保国

教授、硕士生导师，鲁东大学

精选作品

期刊论文

2022

长余辉发光粒子与光催化剂在SiC晶圆化学机械抛光中的协同作用

王万堂，张保国，周佳凯，李浩然，李烨

《表面技术》

2022

焦磷酸钾和双氧水对化学机械抛光中铜/钴电偶腐蚀及去除速率的影响

李浩然，张保国，李烨，阳小帆，杨朝霞

《电镀与涂饰》

2021

光催化氧化对GaN材料腐蚀电化学及化学机械抛光的影响

韦伟，张保国，王万堂，李浩然，李烨

《电镀与涂饰》

DOI

2020

硅通孔化学机械平坦化中铜去除的电化学与选择性研究

刘旭阳，张保国，王如

《电镀与涂饰》

2019

单晶SiC电化学腐蚀及化学机械抛光

考政晓，张保国，于璇，杨盛华，王万堂，刘旭阳，韦伟，马腾达

《半导体技术》

DOI

2019

GaN缓冲衬底的制备及其单晶生长研究

张保国

《山东大学》

2019

紫外光和催化剂对GaN电化学特性及CMP速率的影响

于璇，张保国，考政晓，杨盛华，刘旭阳，韦伟

《半导体技术》

DOI

2017

电化学研究在锗的化学机械抛光上的应用

潘柏臣，张保国，周朝旭

《稀有金属》

DOI

2017

紫外光照射下GaN的电化学性质及CMP应用

张礼，张保国，罗超，刘宜霖，韩丽楠，缪玉欣

《微纳电子技术》

2016

用于最新技术节点Ge和SiGe的CMP技术研究进展

潘柏臣，张保国，赵帅，周朝旭

《微纳电子技术》

2015

A new kind of chelating agent with low pH value applied in the TSV CMP slurry

洪姣，刘玉岭，张保国，牛新环，韩力英

Journal of Semiconductors

会议论文

2016

Benzotriazole and Hydrogen Peroxide Free Alkaline Slurries Developed for Barrier CMP

Chenwei Wang, Yuling Liu, Baoguo Zhang

Proceedings of 2016 International Conference on Planarization/CMP Technology（ICPT 2016）

2016

Study on Passivation Mechanism of GLSI Multi-Layered Copper Wiring CMP

Yuling Liu, Jiao Hong, Chenwei Wang, Baoguo Zhang, Xinhuan Niu

2016 International Conference on Planarization/CMP Technology（ICPT 2016）

2016

Electrochemical Study of Germanium for its CMP Application

Baichen Pan, Baoguo Zhang, Yuling Liu, Chenwei Wang

2016 International Conference on Planarization/CMP Technology（ICPT 2016）

研究方向

半导体材料的化学机械抛光，包括氮化镓、鍺，砷化镓等

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